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技術(shù)文章
TECHNICAL ARTICLESSneox的應(yīng)用場景覆蓋石油、能源、電子/電池等多個領(lǐng)域,在精密制造中,可檢測模具表面粗糙結(jié)構(gòu)與增材制造零件的三維輪廓,通過多焦面疊加技術(shù)還原86°斜率表面形貌,為工藝優(yōu)化提供數(shù)據(jù)支持。半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域,借助顯微定位夾具定位芯片引腳,采用相位差干涉模式測量金線高度,軟件自動分析虛焊缺陷,檢測精度達0.5μm。光學(xué)元件加工中,針對鏡片等超光滑表面,選用相位差干涉模式獲取亞納米級數(shù)據(jù),搭配環(huán)境控制艙避免溫濕度影響,保障面型測量可靠性。柔性電子領(lǐng)域,真空吸附夾具固定薄膜電路,掃描2m...
Sneox采用臺式一體化設(shè)計,尺寸約600mm×500mm×750mm,重量控制在70kg以內(nèi),普通操作臺即可放置,節(jié)省空間。機身外殼選用高強度鋁合金,經(jīng)陽極氧化處理,兼具抗腐蝕與防光反射能力,減少環(huán)境對光學(xué)系統(tǒng)的干擾。核心光學(xué)系統(tǒng)密封在防塵防霧艙內(nèi),避免灰塵水汽影響成像質(zhì)量,鏡頭接口標準化,兼容六種常用物鏡,更換無需復(fù)雜校準。樣品臺為設(shè)備關(guān)鍵結(jié)構(gòu)之一,采用精密滾珠導(dǎo)軌,表面覆蓋耐磨涂層,移動順滑且長期保持精度。其X、Y軸移動范圍均為100mm,Z軸50mm,搭配高精度光柵尺...
SensofarSneox共聚焦白光干涉光學(xué)輪廓儀的操作設(shè)計,充分兼顧了新手易用性與專業(yè)需求。其核心操作載體SensoSCAN軟件采用直觀界面布局,左側(cè)功能欄清晰劃分測量模式選擇、參數(shù)設(shè)置等模塊,右側(cè)實時成像區(qū)域可同步顯示樣品狀態(tài),底部狀態(tài)欄則實時更新掃描進度與存儲路徑,讓操作過程全程可視。導(dǎo)航預(yù)覽功能大幅降低定位難度,正式測量前點擊預(yù)覽,設(shè)備自動生成低倍全景圖,用戶框選目標區(qū)域后,軟件會自動調(diào)整鏡頭位置對準測量點,更換2.5x至100x物鏡時,預(yù)覽圖還能同步顯示視場范圍,避...
膀胱癌是全球常見的惡性腫瘤之一,其中絕大多數(shù)初診患者屬于非肌層浸潤性膀胱癌(NMIBC)。目前,經(jīng)尿道切除術(shù)后輔以卡介苗(BCG)膀胱內(nèi)灌注免疫治療是中高風(fēng)險NMIBC患者的“金標準”方案。BCG通過激活局部免疫反應(yīng),誘導(dǎo)細胞毒性T淋巴細胞清除腫瘤細胞,有效降低復(fù)發(fā)與進展風(fēng)險。然而,傳統(tǒng)BCG療法存在一個顯著缺陷:灌注的BCG會隨著患者排尿在短時間內(nèi)(約2小時)被迅速清除,無法在膀胱內(nèi)維持足夠長的作用時間,從而嚴重限制了其免疫激活效果和最終療效。現(xiàn)有的延長滯留策略,如粘附性水...
徠卡顯微鏡作為精密光學(xué)儀器,其成像質(zhì)量和使用壽命高度依賴于日常的光學(xué)系統(tǒng)保養(yǎng)。規(guī)范的保養(yǎng)不僅能確保圖像始終清晰銳利,更能保護昂貴的光學(xué)部件免受不可逆的損傷。以下是徠卡顯微鏡光學(xué)保養(yǎng)的核心要點與科學(xué)流程。一、保養(yǎng)原則:預(yù)防為主,科學(xué)清潔光學(xué)保養(yǎng)的核心在于“防大于治”。絕大多數(shù)污染和劃痕源于不當(dāng)操作。因此,養(yǎng)成良好的使用習(xí)慣是首要任務(wù):使用后立即蓋上防塵罩,避免用手直接觸摸光學(xué)玻璃表面,環(huán)境應(yīng)保持清潔、干燥、無震動。當(dāng)清潔無法避免時,必須遵循“先吹后擦,由內(nèi)而外”的科學(xué)流程。嚴禁...
白光干涉儀是一種基于寬帶光源的精密測量儀器,其核心原理在于利用低相干光的干涉特性,實現(xiàn)對樣品表面形貌或薄膜厚度的高精度、非接觸測量。與單色光干涉不同,白光干涉因其寬光譜特性,使得干涉現(xiàn)象僅在光程差極小范圍內(nèi)發(fā)生,這一特性被廣泛應(yīng)用于微觀形貌檢測、光學(xué)薄膜表征及微結(jié)構(gòu)分析等領(lǐng)域。其關(guān)鍵技術(shù)正是基于光譜干涉模式的生成與解析。一、光譜干涉的物理基礎(chǔ)當(dāng)一束白光(寬帶光源)通過分束鏡分為兩束,一束射向參考鏡,另一束射向待測樣品后,兩束光重新匯合并發(fā)生干涉。由于白光相干長度極短(通常僅為...
在微納加工領(lǐng)域,1μm及以下線寬電極的制備一直是科研工作者面臨的重大挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)光刻技術(shù)受限于勻膠工藝、光學(xué)衍射極限等因素,難以實現(xiàn)高精度圖形化。今天,我們將揭秘如何利用澤攸科技DMD無掩膜光刻機突破這一技術(shù)瓶頸!三大關(guān)鍵技術(shù)突破1.精密勻膠控制?采用AR-P-5350光刻膠,嚴格控制膠層厚度在1μm?"低速-高速"兩步旋涂法,確保膠膜均勻性?精確控制前烘溫度和時間,提升膠膜附著力2.智能曝光系統(tǒng)?通過QCAD/Klayout軟件實現(xiàn)圖形原位設(shè)計?智能劑量優(yōu)化算法自動匹配最佳曝...
在微納制造和精密測量領(lǐng)域,高深寬比結(jié)構(gòu)的精確測量一直是技術(shù)難點。本文將深入探討數(shù)值孔徑(NA)與深寬比的關(guān)系,以及如何選擇合適的光學(xué)系統(tǒng)來解決這一難題。數(shù)值孔徑(NA)與深寬比的關(guān)系數(shù)值孔徑(NA)是決定光學(xué)系統(tǒng)分辨率的關(guān)鍵參數(shù),它直接影響物鏡的消位置色差能力和測量性能。從圖中可見:?NA越大:通光量越大,進光量減少,適合測量角度信息,具有更好的水平分辨率?NA越小:通光量越小,進光量增加,更適合測量寬深比較大的樣品應(yīng)用案例一:深孔結(jié)構(gòu)測量在深孔測量中,結(jié)構(gòu)光路受限導(dǎo)致光強衰...
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